NS-Zeta丨電位分析儀產(chǎn)品資料
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應(yīng)粉體工業(yè)廣大用戶的顆粒材料表面修飾活化評價、乳液漿料穩(wěn)定性預(yù)測和復(fù)雜制劑工藝配方的優(yōu)化、礦物浮選及污水處理等需求，珠海歐美克儀器有限公司在成功引進和吸收馬爾文帕納科 (Malvern Panalytical)顆粒表征技術(shù)的NS-90Z Plus納米粒度及電位分析儀基礎(chǔ)上最新推出NS-Zeta 電位分析儀，能滿足納米至微米廣闊范圍內(nèi)顆粒樣品的Zeta電位的測試需求。
NS-Zeta 電位分析儀采用電泳光散射技術(shù)測定顆粒Zeta電位和電位分布，同時融合馬爾文帕納科恒流模式下的M3-PALS快慢場混合相位檢測分析技術(shù)，提升了儀器的電位分析性能，延長了樣品池的使用壽命，數(shù)據(jù)隨時間的一致性和電位及電位分布的準(zhǔn)確性都得以明顯提升。
與此同時，儀器廣泛采用全球化供應(yīng)鏈的優(yōu)質(zhì)光電部件及Scrum軟件迭代升級開發(fā)模式，使其具有高品質(zhì)并能隨用戶需求變化升級管理和報表功能。進口雪崩式光電二極管(APD)檢測器、He-Ne氣體激光器光源和高性能相關(guān)器等優(yōu)質(zhì)硬件，加上精確的內(nèi)部溫控裝置、密閉光纖光路設(shè)計以及先進的軟件算法，共同保障了數(shù)據(jù)的高重現(xiàn)性、準(zhǔn)確性和靈敏度。NS-Zeta支持SOP標(biāo)準(zhǔn)化操作，具有兼容CFDA GMP《計算機化系統(tǒng)和確認(rèn)與驗證》要求的審計、權(quán)限管理及電子簽名功能以及具有測試數(shù)據(jù)質(zhì)量智能反饋和優(yōu)化建議，方便用戶使用。
Zeta電位
Zeta電位范圍：無實際限制
適用測試的粒徑上限：不小于100μm (取決于樣品)
最大電泳速率：＞+20μ.cm/V.s / ＜-20μ.cm/V.s
測量原理：電泳光散射法(ELS)
最高樣品濃度：40% w/v (取決于樣品及樣品池)
最小樣品容積：20μL
最高樣品電導(dǎo)率：260mS/cm
檢測技術(shù)：快慢場混合相位分析(M3-PALS)，恒流模式
系統(tǒng)參數(shù)
激光光源：高穩(wěn)定He-Ne氣體 激光器，波長632.8nm，功率 4mW。
整機激光安全：I類
檢測角度：13°
檢測器：雪崩式光電二極管(APD)檢測器，QE>80%@632.8nm
相關(guān)器：采樣時間 25ns - 8000s，多于4000通道，1011動態(tài)線性范圍
冷凝控制：干燥氮氣或空氣吹掃 (需外接氣源)
具有兼容CFDA GMP《計算機化系統(tǒng)和確認(rèn)與驗證》的審計、權(quán)限管理及電子簽名功能
溫度控制范圍：0 - 120 ℃
溫度控制最高精度：± 0.1 ℃
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精細化工行業(yè)納米材料、表活、低聚物等的開發(fā)和生產(chǎn)質(zhì)控
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藥物分散體系、乳液和疫苗等制劑配方和工藝開發(fā)
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脂質(zhì)體和囊泡的開發(fā)
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礦物堆浸及浮選
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鉆井泥漿及陶瓷漿料
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電極漿料及助劑的穩(wěn)定性表征
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涂覆材料穩(wěn)定性能預(yù)測
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墨水、碳粉、染料和顏料性能改進
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優(yōu)化水處理中絮凝劑的使用
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膠體、乳液、漿料穩(wěn)定性評價
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確定多種復(fù)雜制劑的混合、均質(zhì)等加工工藝參數(shù)
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